harmonic抛光机谐波 CSF-17-80-2UH-LW

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来自上海浜田实业有限公司

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发布时间 2024-04-16 09:48:38 关注次数 11586

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图文介绍产品参数供应商信息

辅助工艺。主要包括抛光与清洗。抛光一般使用化学机械平坦化完成抛光工艺harmonic抛光机谐波 CSF-17-80-2UH-LW，使用设备有CMP抛光机、硅片清洗机等。

行业内也将半导体制造工艺过程分为四种基本工艺：薄膜生成工艺harmonic抛光机谐波 CSF-17-80-2UH-LW、图形转移工艺、掺杂工艺、其他辅助工艺（包括热处理工艺、清洗工艺、CMP）。下面我们将分别介绍这四种工艺及其使用设备

薄膜生成工艺是通过生长或淀积的方法，生成集成电路制造过程中所harmonic抛光机谐波 CSF-17-80-2UH-LW需的各种材料的薄膜，如金属层、绝缘层、半导体层等。半导体中各个层次的制造工艺如表2.1所示。例如可以利用蒸发、溅射、电镀工艺生成导体层，如铝或金为材质的导体层。二氧化硅作为绝缘层，可以用热氧化工艺、化学气相淀积工艺或溅射工艺来加工。

品牌HarmonicDrive

型号CSF-17-80-2

类型谐波减速器

载荷状态均匀载荷

传动比级数多级

轴的相对位置立式加速器

传动布置形式展开式

加工定制是

样品或现货现货

齿面硬度软齿面

布局形式摆线式

用途变速机

输入转速1450rpm

额定功率15kw

输出转速范围111rpm

许用扭矩1782N.m

使用范围工业

减速比236

产地日本

上海浜田实业有限公司

公司类型私营有限责任公司
经营模式代理商-私营有限责任公司
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主营业务

上海谐波减速机|哈默纳科|harmonic|NIKUNI|山洋

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