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ASML 4022.472.29794
来自宁德润恒自动化设备有限公司
¥767.00
发布时间  2025-05-02 18:15:49 关注次数  59
宁德润恒自动化设备有限公司
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图文介绍 产品参数 供应商信息

ASML 4022.472.29794 

ASML 4022.472.29794 

ASML 4022.472.29794 

:核心技术参数全览

在现代半导体制造领域,光刻技术是推动芯片性能提升的关键。而ASML作为全球领先的光刻设备供应商,其产品一直备受行业关注。本文将详细解析ASML设备中的一款重要产品——4022.472.29794的核心技术参数,帮助读者更好地理解其性能与优势。

一、基本情况概述

ASML 4022.472.29794是ASML公司生产的一款先进光刻设备,主要用于晶圆制造过程中的曝光工艺。该设备采用深紫外(DUV)光源技术,能够实现高精度、高效率的光刻操作,广泛应用于集成电路(IC)制造领域。

二、核心技术参数

1. 
光源技术
● 
ASML 4022.472.29794采用深紫外(DUV)光源,波长为193nm。DUV光源具有较短的波长,能够实现更高的分辨率,从而满足先进制程的需求。
2. 
分辨率
● 
该设备的最小分辨率可达到38nm。这一高分辨率使得设备能够在晶圆上刻画出极为精细的电路图案,满足当前及未来一段时间内芯片制造的需求。
3. 
套刻精度
● 
套刻精度是衡量光刻设备性能的重要指标之一。ASML 4022.472.29794的套刻精度为≤2.5nm,确保了多层电路图案之间的精确对齐,提高了芯片的良品率。
4. 
曝光场尺寸
● 
设备的曝光场尺寸为26mm x 33mm。较大的曝光场尺寸能够提高生产效率,减少曝光次数,从而降低生产成本。
5. 
生产产能
● 
ASML 4022.472.29794的生产产能为≥185wph(每小时晶圆处理量)。这一高产能使得设备能够在短时间内处理大量晶圆,满足大规模生产的需求。
6. 
对准系统
● 
设备采用先进的对准系统,能够实现高精度的对准操作。对准系统的性能直接影响到光刻图案的精度和套刻精度,是保证芯片制造质量的关键因素之一。
7. 
掩模版尺寸
● 
支持6英寸和8英寸掩模版。灵活的掩模版尺寸支持使得设备能够适应不同尺寸晶圆的生产需求,提高了设备的通用性。

三、应用领域及优势

ASML 4022.472.29794广泛应用于逻辑芯片、存储芯片等高端芯片的制造过程中。其主要优势在于:
1. 
高精度:设备具有极高的分辨率和套刻精度,能够满足先进制程的需求。
2. 
高效率:高产能使得设备能够在短时间内处理大量晶圆,降低生产成本。
3. 
高通用性:支持不同尺寸的掩模版,提高了设备的通用性和灵活性。
4. 
稳定性:设备采用先进的技术和材料,具有较高的稳定性和可靠性,能够保证长时间连续生产的稳定性。

四、总结

ASML 4022.472.29794作为一款先进的光刻设备,凭借其高精度、高效率、高通用性和稳定性等优势,在半导体制造领域得到了广泛应用。通过深入解析其核心技术参数,我们可以更好地理解其性能与优势,为芯片制造企业选择合适的设备提供重要参考。
ASML 4022.472.29794的参数信息如下:
● 
型号:4022.472.29794
● 
光源波长:193nm
● 
最小分辨率:38nm
● 
套刻精度:≤2.5nm
● 
曝光场尺寸:26mm x 33mm
● 
生产产能:≥185wph
● 
对准系统:高精度对准系统
● 
掩模版尺寸:6英寸和8英寸
通过以上详细解析,相信读者对ASML 4022.472.29794的核心技术参数有了更加深入的了解。

品牌ASML
型号4022.472.29794
结构形式模块式
安装方式现场安装
LD指令处理器硬PLC
加工定制
宁德润恒自动化设备有限公司
  • 公司类型私营独资企业
  • 经营模式-私营独资企业
  • 联系人吴神恩
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